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Global supplier of film equipment
— 涂布机中心 —





平面涂布机: 钙钛矿/ 光学玻璃/ 太阳能背板膜、光伏膜/  液晶显示



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   主要技术指标

1.涂布基材:玻璃片材,厚度:125-1000um

2.基板宽度:Max1600mm

3.涂布浆料特性:UV胶,粘度300-3000cps,100固含%

4.溶剂类型:无溶剂

5.涂布方式:狭缝挤出

6.固化方式:LEDUV,波长395nm      

7.机械速度:2m/min,正常生产速度0.2-1m/min

8.电气控制:PLC,伺服电机驱动/磁粉制动器控制

9.动力电压:380V-50Hz -3P

10.气压: 5kg/cm2 (Max. 7kg/cm2)

11.设备外形尺寸:以最终设计为准

12.工作环境:温度15-30℃,相对湿度55%±10%

13.工艺流程:最终沟通确认








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